中微公司出资30亿成都建新厂，2024年研制投入暴增94%

liukang20244个月前 (05-13)吃瓜科普443

北京时间1月14日晚，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”），拟在成都建立一家新公司，并估计2025至2030年期间，项目总投资约30亿元，注册资本为人民币1亿元，首要用于研制薄膜设备。

该成都公司建造用地约50亩，建造包含研制中心、出产基地和配套设备，公司将作为中微公司的西南总部。2025年开工，2027年投入出产。据了解，该公司在上海临港和江西南昌现已具有18万平方米和14万平方米的出产研制基地，投入使用。

该公司首要用于研制制作薄膜设备，从事面向逻辑及存储芯片，展开化学气相堆积设备（CVD）、原子层堆积设备（ALD）和其它设备的研制与出产作业。一起，它会加强与成都高校院所的协作，推进区域产学研一体化。

中微公司是国内最大的半导体刻蚀设备制作商之一。刻蚀设备是继光刻机之后的第二大设备商场，依据Business Research Insight数据显现，2024年全球半导体刻蚀设备的职业规划将超207亿美元。中国是全球最大的集成电路设备商场，跟着国产化进程加快，依据TrendForce数据，刻蚀设备的国产化率已超50%，中微公司的刻蚀设备在国内芯片出产线的市占率大幅进步。依据2024年最新成绩预告，中微公司的刻蚀设备出售额约73亿元，同比增加55%，占公司全体营收80%以上。

近年来，中微公司正在拓宽薄膜设备、检测设备等制作品类，而薄膜设备是光刻机和刻蚀机外的第三大设备商场。该公司布局了薄膜设备中的MOCVD、LPCVD、ALD等设备，依据2024年成绩预告，MOCVD出售额约4亿元，同比下降18%，LPCVD在2024年完成首台出售，全年出售额约2亿元。此外，中微公司还在拓宽第四大设备商场的检测设备。

现在，堆积设备的国产化率较低，依据TrendForce数据，CVD和ALD国产化率仅10%左右。当时，布局该范畴的世界企业包含使用资料公司、泛林集团、东京电子等公司。国内布局该范畴的公司除中微公司外，还有北方华创、盛美上海、嘉芯半导体等。

在发布新设公司的一起，中微公司还发布2024财年成绩预告。2024年营收约为91亿元，同比增加45%，归母净利润为15亿元~17亿元，同比削减16%~5%，扣非净利润为13亿元至14亿元，同比增加7%至20%。成绩预告显现，中微公司2024年研制投入约25亿元，同比增加高达94%，研制投入占营收比重27%。

中微表明，公司在刻蚀设备和薄膜设备方面的客户认可度进步，针对要害晶圆制作工艺的高端产品的新增付运量和出售额明显进步。此外，公司表明LPCVD薄膜设备累计出货量打破100台，多项要害薄膜设备研制项目发展顺畅。一起，另一种薄膜设备EPI设备已顺畅进入客户量产验证阶段。它还表明，中微公司正继续开发要害零部件供货商，推进供应链的安稳和安全。

(本文来自榜首财经)

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